在集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，其中包括硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。

化工行業(yè)中的純水主要應(yīng)用于電池溶劑用水、化學(xué)分析、化工材料、產(chǎn)品清洗、物質(zhì)的分離、濃縮、提純等產(chǎn)線，純水電導(dǎo)率0.1uS/cm-15uS/cm即可滿足要求。

在純水設(shè)備中通過前置預(yù)處理裝置，對原水進行初步的過濾，達到反滲透主機的進水要求。

超純水設(shè)備采用高精密器件，無易損件，只需按時對設(shè)備進行維護保養(yǎng)，就可以增加設(shè)備使用時間。

光電產(chǎn)業(yè)超純水設(shè)備由石英砂過濾器、活性炭過濾器、軟化器和精密過濾器組成預(yù)處理系統(tǒng)，主要設(shè)備有反滲透裝置、EDI模塊。傳統(tǒng)的超純水設(shè)備采用陰陽混床裝置，如今EDI技術(shù)取代了混床的應(yīng)用。

在反滲透系統(tǒng)中，RO膜是至關(guān)重要的，其性能不僅直接影響水質(zhì)以及產(chǎn)水量，同時也是整個系統(tǒng)能夠穩(wěn)定運行的關(guān)鍵。因此需要對設(shè)備進行定時的維護和保養(yǎng)。

反滲透純水設(shè)備是采用反滲透技術(shù)，利用半透過性膜選擇性通過的特點，對原水進行過濾，使產(chǎn)水滿足廣大行業(yè)的使用標(biāo)準。 現(xiàn)反滲透純水設(shè)備已廣泛應(yīng)用于以下行業(yè)：

反滲透膜經(jīng)過長時間運行后由于無機鹽、金屬氧化膜、膠體、懸浮固體物等污染，導(dǎo)致產(chǎn)水水質(zhì)不符合標(biāo)準，此時應(yīng)該對反膜元件進行清洗。

一般反滲透純水設(shè)備都配有多介質(zhì)過濾器、活性炭過濾器、軟化樹脂過濾器。定期的正反沖洗可以清除過濾器中存留的雜質(zhì)污染物，活性炭過濾可有效去除水中的游離氯、色度、微生物、有機物以及部份重金屬等有害物質(zhì)。